I nanofili di silicio (SiNWs) sono strutture con diametri che possono variare da qualche decina a qualche centinaia di nanometri, e lunghezze che vanno da poche centinaia di nanometri a millimetri. I SiNWs sono realizzati presso i laboratori dell'IMM-CNR, sezione di Roma, con tecnologie di tipo bottom-up, come la deposizione PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition), a temperature di crescita sufficientemente basse (≤350°C) da essere compatibili con substrati plastici o vetrosi.
Tecnologie
In questa sezione è possibile visionare, anche attraverso ricerche mirate, le tecnologie presenti nel Database di PROMO-TT. Per maggiori informazioni sulle tecnologie e per contattare i Team di Ricerca del CNR che le hanno sviluppate è necessario rivolgersi al Project Manager (vedi i riferimenti in fondo a ogni scheda).
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La presente invenzione ha per obiettivo un dispositivo scintigrafico modulare, ad elevata risoluzione spaziale, in grado di realizzare aree di indagine di varie forme e dimensioni, di forma compatta e di essere utilizzato in diverse tipologie di applicazioni.
La presente invenzione ha per oggetto una gamma camera per uso intracavitario che trova ampia applicazione nel campo della chirurgia radioguidata (intraoperatoria e laparoscopica e robotica assistita) per la localizzazione di linfonodi e tumori e/o di altre patologie. Compito tecnico della presente invenzione risulta dunque essere quello di mettere a disposizione una gamma camera intracavitaria in grado di superare gli inconvenienti dell’attuale arte nota.