Il doping molecolare (MD) è un metodo di drogaggio basato sull’uso di soluzioni liquide. Il precursore del drogante è in forma liquida e il materiale da drogare viene immerso nella soluzione. Durante il processo di immersione, la molecola contenente l’atomo drogante si deposita sulla superficie del materiale formando un monostrato autoassemblato, cioè ordinato e compatto. Attraverso un successivo trattamento termico, si ha la decomposizione della molecola e la diffusione del drogante.
Tecnologie
In questa sezione è possibile visionare, anche attraverso ricerche mirate, le tecnologie presenti nel Database di PROMO-TT. Per maggiori informazioni sulle tecnologie e per contattare i Team di Ricerca del CNR che le hanno sviluppate è necessario rivolgersi al Project Manager (vedi i riferimenti in fondo a ogni scheda).
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L’ottimizzazione dei processi metallurgici risulta oggi cruciale per la progettazione e sviluppo di materiali avanzati in grado di operare e resistere in condizioni estremamente aggressive quali quelle di impianti di produzione di energia, fonti rinnovabili, reattori nucleari di nuova generazione, elettronica avanzata, trasporto a terra, avionica e aerospazio, catalisi, biomedicali, ecc.
Tecniche deposizione da soluzione chimica di precursori metal-organici hanno permesso la ricerca e lo sviluppo di strati sottili ossidi semplici e composti come Pb(Zr,Ti)O3, e Al2O3, fino all’applicazione industriale in dispositivi piroelettrici o capacitori. Le tecniche di deposizione usano spin-on o dip-coating. I vantaggi di queste tecniche sono:
(i) bassi costi di apparecchiatura e di reattivi
(ii) deposizione su larghe aree
(iii) basse temperature di cristallizzazione