Tecnologie

Proponiamo una tecnica ottica per il controllo veloce della presenza, sulle superfici esposte di persone o oggetti, di esplosivi e loro precursori, o droghe, o in generale sostanze non permesse in ambienti protetti: aeroporti, uffici giudiziari, luoghi di culto, eccetera. La tecnica permette fotografie bidimensionali, con tempi di esposizione < 1 sec, con l'indicazione delle sostanze bersaglio, e della loro posizione e quantità.

I nanofili di silicio (SiNWs) sono strutture con diametri che possono variare da qualche decina a qualche centinaia di nanometri, e lunghezze che vanno da poche centinaia di nanometri a millimetri. I SiNWs sono realizzati presso i laboratori dell'IMM-CNR, sezione di Roma, con tecnologie di tipo bottom-up, come la deposizione PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition), a temperature di crescita sufficientemente basse (≤350°C) da essere compatibili con substrati plastici o vetrosi.