Tecnologie

Tecniche deposizione da soluzione chimica di precursori metal-organici hanno permesso la ricerca e lo sviluppo di strati sottili ossidi semplici e composti come Pb(Zr,Ti)O3, e Al2O3, fino all’applicazione industriale in dispositivi piroelettrici o capacitori. Le tecniche di deposizione usano spin-on o dip-coating. I vantaggi di queste tecniche sono:

(i) bassi costi di apparecchiatura e di reattivi

(ii) deposizione su larghe aree

(iii) basse temperature di cristallizzazione

La tecnologia si riferisce allo sviluppo di un’innovativa sorgente di plasma (gas ionizzato) operante a pressione atmosferica e a bassi livelli di potenza elettrica. Mediante tale sorgente è prodotto un plasma freddo, caratterizzato da una temperatura ionica molto inferiore a quella elettronica. La parziale ionizzazione di un flusso di elio è ottenuta grazie all’applicazione di una tensione variabile (radiofrequenza) tra due griglie parallele poste in direzione perpendicolare a quella del flusso stesso.