Tecnologie

I nanofili di silicio (SiNWs) sono strutture con diametri che possono variare da qualche decina a qualche centinaia di nanometri, e lunghezze che vanno da poche centinaia di nanometri a millimetri. I SiNWs sono realizzati presso i laboratori dell'IMM-CNR, sezione di Roma, con tecnologie di tipo bottom-up, come la deposizione PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition), a temperature di crescita sufficientemente basse (≤350°C) da essere compatibili con substrati plastici o vetrosi.

Le leghe a memoria di forma (SMA) hanno attratto crescente interesse negli ultimi anni come materiali adatti alla refrigerazione a stato solido. In particolare, uno dei metodi più attrattivi è l’utilizzo della deformazione meccanica per indurre la trasformazione di fase e generare e assorbire calore mediante l’effetto elastocalorico.

La tecnologia proposta offre un metodo innovativo e versatile per rilevare cricche e difetti nei materiali isolanti di dispositivi polarizzati elettricamente, ad esempio rivestimenti e depositi dielettrici su metalli, specialmente in ambienti con gas a bassa pressione. Utilizza un plasma ionizzato che interagisce uniformemente con la superficie isolante, permettendo di rilevare difetti invisibili a occhio nudo. Il rilevamento avviene in un singolo test senza modificare le condizioni ambientali e senza rischiare scariche elettriche dannose.

L’ottimizzazione dei processi metallurgici risulta oggi cruciale per la progettazione e sviluppo di materiali avanzati in grado di operare e resistere in condizioni estremamente aggressive quali quelle di impianti di produzione di energia, fonti rinnovabili, reattori nucleari di nuova generazione, elettronica avanzata, trasporto a terra, avionica e aerospazio, catalisi, biomedicali, ecc.