# Scheda
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Descrizione
L’invenzione consiste in un metodo e un apparato per l'erogazione a bassa pressione (uguale o minore di 10-7 Torr) di fluoro monoatomico per la reazione con superfici in un ambiente ultra pulito. Grazie ai bassi valori di pressione coinvolti nel metodo proposto, i rischi connessi all’uso del fluoro sono ridotti al minimo.
Aree tematiche
Chimica e Processi fisici e chimici / Sostanze inorganiche
ICT ed Elettronica / Elettronica e microelettronica
ICT ed Elettronica / Nanotecnologie legate all'elettronica e alla microelettronica
Manifattura industriale additiva e avanzata / Tecnologie del vuoto
Materiali / Metalli e leghe
Materiali / Proprietà dei materiali, corrosione, degradazione
Materiali / Processi di produzione e trattamento dei materiali
Materiali / Materiali foto-attivi e a base di grafene
Materiali / Semiconduttori e superconduttori
Chimica e Processi fisici e chimici / Micro e nanotecnologie