Tecnologie

L’invenzione consiste in un metodo e un apparato per l'erogazione a bassa pressione (uguale o minore di 10^-7 Torr) di fluoro monoatomico per la reazione con superfici in un ambiente ultra pulito. Grazie ai bassi valori di pressione coinvolti nel metodo proposto, i rischi connessi all’uso del fluoro sono ridotti al minimo.

La tecnologia proposta offre un metodo innovativo e versatile per rilevare cricche e difetti nei materiali isolanti di dispositivi polarizzati elettricamente, ad esempio rivestimenti e depositi dielettrici su metalli, specialmente in ambienti con gas a bassa pressione. Utilizza un plasma ionizzato che interagisce uniformemente con la superficie isolante, permettendo di rilevare difetti invisibili a occhio nudo. Il rilevamento avviene in un singolo test senza modificare le condizioni ambientali e senza rischiare scariche elettriche dannose.

L’ottimizzazione dei processi metallurgici risulta oggi cruciale per la progettazione e sviluppo di materiali avanzati in grado di operare e resistere in condizioni estremamente aggressive quali quelle di impianti di produzione di energia, fonti rinnovabili, reattori nucleari di nuova generazione, elettronica avanzata, trasporto a terra, avionica e aerospazio, catalisi, biomedicali, ecc.

Il dispositivo proposto è uno schermo semitrasparente che permette di visualizzare contemporaneamente ciò che si trova oltre lo schermo e le immagini proiettate sulla sua superficie. È composto da due lastre di vetro sottile con una maglia di elementi riflettenti disposti come microlenti, incorporati in una resina. La luce del proiettore viene riflessa dagli elementi verso l'occhio dell'utilizzatore, mentre la luce esterna attraversa gli strati trasparenti senza distorsioni.