Tecnologie

L’invenzione consiste in un metodo e un apparato per l'erogazione a bassa pressione (uguale o minore di 10^-7 Torr) di fluoro monoatomico per la reazione con superfici in un ambiente ultra pulito. Grazie ai bassi valori di pressione coinvolti nel metodo proposto, i rischi connessi all’uso del fluoro sono ridotti al minimo.

Lo sviluppo della tecnologia risale a circa 25 anni fa, implementando negli anni innovazioni su singoli componenti. Il metodo di indagine fornisce un set di immagini acustiche 2D risolte in frequenza, per la rilevazione del danno strutturale (distacchi, delaminazioni, indebolimento strutturale) in strutture multistrato e manufatti artistici (dipinti murali, affreschi, pannelli ceramici, dipinti su tavola). Recentemente, interessanti risultati sono stati ottenuti studiando il degrado relativo alla presenza di umidità nelle murature antiche.

Il principio di funzionamento della giunzione VTTJ è estremamente semplice. Due parti (almeno una di forma tubolare) sono avvitate una nell’altra con una certa interenza meccanica che crea una guarnizione metallica. Una parte presenta una cava cilindrica, la seconda presenta un anello conico, il cui diametro è leggermente maggiore di quello della cava cilindrica. Quando le due parti sono avvitate insieme, c’è una deformazione plastica nella regione di interferenza meccanica.

La tecnologia proposta offre un metodo innovativo e versatile per rilevare cricche e difetti nei materiali isolanti di dispositivi polarizzati elettricamente, ad esempio rivestimenti e depositi dielettrici su metalli, specialmente in ambienti con gas a bassa pressione. Utilizza un plasma ionizzato che interagisce uniformemente con la superficie isolante, permettendo di rilevare difetti invisibili a occhio nudo. Il rilevamento avviene in un singolo test senza modificare le condizioni ambientali e senza rischiare scariche elettriche dannose.

L’infrastruttura NanoMicroFab consente di supportare le aziende operanti nell’ambito della micro e nanoelettronica attraverso la fornitura di materiali, lo sviluppo di processi e dispositivi, la progettazione e la caratterizzazione di materiali e dispositivi.

L’ottimizzazione dei processi metallurgici risulta oggi cruciale per la progettazione e sviluppo di materiali avanzati in grado di operare e resistere in condizioni estremamente aggressive quali quelle di impianti di produzione di energia, fonti rinnovabili, reattori nucleari di nuova generazione, elettronica avanzata, trasporto a terra, avionica e aerospazio, catalisi, biomedicali, ecc.

Il dispositivo proposto è uno schermo semitrasparente che permette di visualizzare contemporaneamente ciò che si trova oltre lo schermo e le immagini proiettate sulla sua superficie. È composto da due lastre di vetro sottile con una maglia di elementi riflettenti disposti come microlenti, incorporati in una resina. La luce del proiettore viene riflessa dagli elementi verso l'occhio dell'utilizzatore, mentre la luce esterna attraversa gli strati trasparenti senza distorsioni.

Le tecniche di imaging a raggi X possono funzionare in i) "modalità full-field" in cui l'oggetto da studiare (o parte di esso) è completamente illuminato dal fascio di raggi X; ii) "modalità a scansione" in cui un fascio di raggi X, focalizzato attraverso un'ottica opportuna, illumina in successione aree contigue del campione in esame e l'onda trasmessa viene misurata da un rivelatore posto ad una distanza adeguata da esso.